該服務(wù)實(shí)現(xiàn)了對不同材料的選擇性刻蝕，可對不同材料微結(jié)構(gòu)進(jìn)行精細(xì)化處理，實(shí)現(xiàn)無掩模圖像化。
原子級沉積能幫助您精確操縱原子，最薄可沉積單原子的超薄膜。該技術(shù)能達(dá)到極好的三維保形性，能獲得高平整性、附著性，還適用于不同形狀的基底。
超淺層離子注入服務(wù)可實(shí)現(xiàn)亞5 nm超淺層離子注入，分辨率可達(dá)0.6 nm，能精準(zhǔn)控制注入深度、濃度和分布。該技術(shù)對于提升半導(dǎo)體器件的性能至關(guān)重要，能夠有效改善電氣特性，滿足現(xiàn)代集成電路對高性能和高密度的需求。
我們的原子級平坦化技術(shù)能夠?qū)⒉牧媳砻嫣幚碇猎蛹墑e的平坦度，Ra<0.5 nm，平整度高，為后續(xù)工藝提供理想的基底。
我們的無損傷清洗技術(shù)采用原子級團(tuán)簇束流，能夠在8寸晶圓上去除晶圓制造過程中的納米級顆粒、自然氧化層、金屬污染、有機(jī)物等雜質(zhì)。
根據(jù)用戶特定的需求和應(yīng)用領(lǐng)域，提供個(gè)性化的技術(shù)方案，確保系統(tǒng)能夠滿足最前沿的科研或工業(yè)應(yīng)用的要求。
